下一代成像与显示技术需要光电子行业与高精度微纳光学行业交叉创新，其中，微纳制造是行业核心技术，将成为引领材料革命、产品更新的关键共性技术，具有战略前瞻性。本工程中心围绕显示与成像需求，确定四个主要研究方向（图1）：新颖材料器件、微纳光制造、新型显示与成像、柔性光电子。

图1 中心研究方向

方向一：新颖材料器件

基于微纳结构超材料的新颖材料器件，包括超宽波段的微波吸收机理和设计，大口径多功能薄膜成像器件及应用、微纳光结构色的调控器件，以及大口径微纳光栅的设计和制备等，为微纳米器件的实际应用提供原理和技术支撑，为产业创新和国防科技形成核心技术。

方向二：微纳光制造

微纳结构制造是纳米技术发展与应用的核心技术，可在光子芯片、透明导电、光子晶体等方面实现前所未有的先进材料与功能器件。对微纳制造装备的方法、技术工艺和系统的深度研发，将会形成革命性技术的重大应用的支撑。

方向三：新型显示与成像

以纳米光刻、向量光场调制技术、虚实融合技术为支撑，在虚实融合的衍射光波导和向量光场调制的裸眼3D显示屏的研究上取得重大进展，提出并实现了多种光波导镜片的结构方案，向高光效、超薄化和低成本迈出重要一步。

方向四：柔性光电子

显示产业已成为中国信息产业支撑产业之一，对柔性光电子材料和器件有巨大需求。同时，柔性光电子材料与器件的研究是国家战略需求和产业战略安全的基础技术。